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机译:高级CmOs器件用铝酸镧高介电常数栅氧化物的综合研究
Masamichi Suzuki;
机译:用于高级CMOS器件的铝酸镧高介电常数栅氧化物的综合研究
机译:高k和更稳定的稀土氧化物作为先进CMOS器件的栅极电介质的设计
机译:具有超薄栅极氧化物的高级CMOS器件中噪声的排水和栅极电流
机译:研究将Ⅲ族元素(镧,gate 、,和铝)掺入用于高级CMOS应用的金属栅/高k堆栈中的方法。
机译:在先进的CMOS技术中防止P通道器件的薄栅氧化层渗透硼
机译:在先进的CMOS技术中防止硼穿过P沟道器件的薄栅氧化物
机译:形成用于高级CMOS器件的硅化金属栅极的工艺选项
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